ETO首席分析師扎卡里·阿諾德表示,這一報告展示了中國的發(fā)展態(tài)勢。分析指出,2018年至2023年間,關于芯片設計和制造的研究論文中,來自中國機構的作者數(shù)量是美國的兩倍多。而且這不僅是數(shù)量問題,在高引用論文方面,中國也表現(xiàn)出色。按發(fā)表年份統(tǒng)計,被引用次數(shù)最多的前10%的論文中,50%由來自中國的作者參與合著。相比之下,來自美國的作者為22%,來自歐洲機構的作者為17%。這類研究涵蓋了廣泛的學術領域,從傳統(tǒng)計算機芯片、優(yōu)化用于人工智能(AI)的快速圖形處理單元,到全新的架構,不一而足。
該分析僅涉及帶有英文摘要的論文,對于中國作者的論文,這些更可能是具有國際影響力的論文。阿諾德表示,中國一直在許多領域提升研究產出。這將在未來幾年對中國技術能力乃至制造能力產生顯著影響。
ETO團隊還確定了芯片研究中的“熱點”領域,包括神經形態(tài)計算和光計算。就論文數(shù)量而言,中國在這兩個特定領域都處于領先地位。
喬治城大學安全與新興技術中心數(shù)據研究分析師兼中國專家雅各布·費爾德戈伊斯表示,如果商業(yè)化,這兩種推測性技術都有潛力用于AI,中國不僅會迎頭趕上,還可能實現(xiàn)跨越式發(fā)展。
從2022年10月開始,美國商務部開始禁止向中國銷售某些先進芯片和制造設備。報道稱,中國在光學物理等領域的領先地位,有可能使美國的制裁“失靈”。
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